Поиск

Категории

Основы технологии кремниевых интегральных схем. Окисление, диффузия, эпитаксия.

Под ред. Р.Бургера и Р.Донована. Пер.с англ.
ID
39754
Год издания
1969
Издательство
Мир,
Страниц
451с., ил.
Переплёт
твёрдый
Формат
увеличенный
Состояние
удовлетворительное, потертости, сбиты уголки, надрыв корешка , списана из библиотеки, библиотечный кармашек

 Есть в наличии

Книга посвящена процессам окисления, диффузии и эпитаксии кремния. По существу изложенный материал охватывает основные процессы планарной технологии - наиболее универсальной технологии, позволяющей производить любые полупроводниковые приборы от простейшего диода до сложнейших интегральных субсистем. Использованы малоизвестные или не публиковавшиеся ранее данные и сведения из отчетов фирм и докладов на конференциях. Приведено большое количество графиков и поясняющих схем.

НаучКнига.
Сайт основан на движке Inozem
Служебный вход© НаучКнига 2015-2017
Страница сгенерирована за 1.27с.